. 【高等研究院建院10周年系列学术活动(第22场)】二维半导体载流子迁移率与介电界面性质的调控-深圳大学高等研究院
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【高等研究院建院10周年系列学术活动(第22场)】二维半导体载流子迁移率与介电界面性质的调控

2024年05月11日 14:55

主讲人 杨 明 助理教授(香港理工大学) 时间 2024年5月17日周五15:00
地址 深圳大学致知楼706

报告主题:二维半导体载流子迁移率与介电界面性质的调控

主讲人:杨明助理教授(香港理工大学)

主持人:李晓光

时 间:2024年5月17日周五15:00

地 点:深圳大学致知楼706

嘉宾简介

杨明博士目前是香港理工大学应用物理系助理教授、博士生导师,IEEE EDS & SSC香港分会秘书, IEEE Transactions on Emerging Topics in Computational Intelligence杂志副主编。杨明博士目前主要研究兴趣是发展高通量筛选、高通量第一性原理计算、基于物理的机器学习等研究能源与催化材料、二维材料的物理性质与器件应用,理解与调控二维半导体材料与介电层、金属接触的界面性质。到目前为止,已在国际权威刊物如Nat. Materials、Nat. Electronics、Nat. Nanotechn.、Nat. Commun.、JACS、Adv. Mater.等发表超过180篇论文(Google Scholar上引用次数超过6500、H-index 43),拥有3项PCT专利,并贡献石墨烯手册、二维过渡金属硫化物等专著的相关章节。

报告摘要:

2D semiconductors such as MoS2 could potentially replace silicon in future electronic devices. However, the low carrier mobility in the 2D MoS2 at RT and its inferior interface with high-k dielectrics, remain critical challenges for high-performance nanoelectronics. In this talk, we show that by introducing rippled lattice structure in 2D MoS2, a record-high carrier mobility can be achieved at room temperature. For the interface between conventional high-k dielectrics and 2D MoS2, we find that hydrogenation is a desired approach to passivate the dangling bonds and improve the interface properties, in which the hydrogenation only selectively occurs at high-k dielectrics. Finally, we report a data-driven approach to accelerate the development of various promising inorganic molecular crystals as the high-performance high-k dielectrics for 2D electronic devices. These results deepen the understanding of the carrier mobility in 2D semiconductors and their interface with high-k dielectrics, and could be useful for developing a broad range of high-performance 2D electronic and optoelectronic devices.


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